檢索結果:共6筆資料 檢索策略: "buffer".ekeyword (精準) and ckeyword.raw="緩衝層"
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本研究利用CO2低溫雷射退火製程,將鋯鈦酸鉛(PZT)鐵電薄膜與錳酸鍶鑭(LSMO)氧化物電極鍍製於316型不鏽鋼線與薄板基板上,以改善傳統爐內退火常導致線狀或薄板型鐵電元件產生界面擴散與氧化等問題…
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碳化矽是一個具有良好物理、機械和電子特性的寬能隙材料,使其成為下一個世代中高功率元件的替代材料。在過去大家對於矽基板上磊晶成長碳化矽有很大的興趣,因為其具有低成本以及大面積的優勢,另一方面將矽表面進…
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本研究採用連續離子層吸附反應法(Successive Ionic Layer Adsorption and Reaction, SILAR)於TiO2表面沉積不同類型的量子點,探討量子點異質結構間的…
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在本研究中,我們分別針對pentacene有機薄膜電晶體的製程參數、表面處理技術與元件可靠度進行系統性地研究。在有機薄膜電晶體製程參數的研究中,我們使用不同的pentacene蒸鍍速率、改變元件通道…
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本論文使用有機金屬氣相沈積法(metalorganic chemical vapor deposition, MOCVD)製備氮化鎵/氮化銦鎵發光二極體,分別利用添加ZnO當作緩衝層、改變GaN在高…